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taimei電子元件材料研磨分散用氧化鋁球 實驗室材料

訪問次數(shù):1625

更新日期:2024-03-24

簡要描述:

taimei電子元件材料研磨分散用氧化鋁球
基于我們作為高純度氧化鋁“ Tymicron"制造商多年培養(yǎng)的技術(shù)和開發(fā)的造粒技術(shù),我們開發(fā)了直徑比傳統(tǒng)氧化鋁球更小,耐磨性更高的氧化鋁珠。

taimei電子元件材料研磨分散用氧化鋁球 實驗室材料
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taimei電子元件材料研磨分散用氧化鋁球 

氧化鋁珠

φ0.1毫米珠TB-01

■壽命長

由于具有精細且均勻的α-氧化鋁晶體結(jié)構(gòu),因此具有*的耐磨性和抗裂性,從而獲得了驚人的長壽命。例如,研磨過的氧化鋁粉末的耐磨性是市售氧化鋯珠的幾倍(見圖1)。

高純度(純度99.99%)

它還具有非常低的放射性同位素含量,例如U和Th,使其適合不喜歡輻射的應(yīng)用(請參見表1)。

■抗熱水能力強

即使在粉碎過程中漿液溫度升高,如氧化鋯珠所觀察到的那樣,耐磨性也不會降低,并且可以在較寬的溫度范圍內(nèi)使用。它還對酸和堿具有出色的耐腐蝕性。

■粉碎控制

由于密度是氧化鋯珠的密度的2/3,因此在粉碎納米顆粒時不會施加過多的能量,并且可以抑制過度研磨和重新聚集。另外,填充重量為氧化鋯的2/3。

■珠子尺寸

我們提供φ0.2 mm,0.3 mm,0.4 mm和0.5 mm的珠子,包括目前市場上z小的氧化鋁珠子φ0.1 mm 。

主要用途

  • 精細陶瓷粉末粉碎/分散

  • 粉碎/分散電子零件材料

  • 油墨,顏料,油漆的粉碎和分散

  • 粉碎并分散電池材料

  • 壓碎和分散玻璃和磨料

  • 其他

taimei電子元件材料研磨分散用氧化鋁球 

耐磨性數(shù)據(jù)(圖1)

■使用介質(zhì)攪拌機時珠磨耗率的比較

使用介質(zhì)攪拌研磨機時磁珠磨損率的比較

研磨介質(zhì)類型:我們的高純度氧化鋁珠,商用氧化鋁珠,商業(yè)氧化鋯珠

研磨機類型:中攪拌磨

研磨對象:α-氧化鋁粉或清氧化鋁(三水鋁石)

溶劑:水

漿濃度:α-氧化鋁60mass% ,青氧化鋁15mass%

轉(zhuǎn)子圓周速度:①7.8m / s,②12.6m / s

研磨對象溫度:20?30 ℃

純度數(shù)據(jù)(表1)

■雜質(zhì)分析例

元件?
含量ppm8四個8332

(U:4 ppb以下,Th:5 ppb以下)

通過ICP發(fā)射光譜法測定





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